PUMA
Istituto dei materiali per l'elettronica ed il magnetismo     
Calicchio M., Calestani D., Zappettini A., Mosca R. Realizzazione di maschere per evaporazioni. Rapporto interno n. 118. Technical report, 2008.
 
 
Abstract
(English)
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Abstract
(Italiano)
In questo rapporto interno, verrā illustrato come presso l'IMEM, si č studiato e creato un procedimento tecnologico, per la produzione a basso costo di maschere per evaporazione. All'interno di un laboratorio di ricerca, si ha l'esigenza di pattern metallici differenti, i quali hanno tempi i costi di realizzazione. Č importante aver un'esigenza di una messa a punto di un procedimento per maschere che coniughi il basso costo e il minimo tempo di realizzazione, in modo che consenta un feedback "immediato" tra realizzazione e progetto. Questo consente un enorme vantaggio soprattutto nella prima fase di ricerca di studio di parametri di deposizioni e evaporazioni con strutture di dimensioni note e generalmente nell'ordine dei micron. Dovendosi affidare completamente a definizioni di maschere da parte di ditte esterne specializzate questo tipo di approccio, č piuttosto costoso, in quanto tali ditte, producono tali maschere in vari materiale con costi di centinaia di euro. Inoltre la possibilitā di riproducibilitā č necessariamente legata alla produzione di una nuova maschera con costi aggiuntivi. Pertanto si č pensato di sviluppare un procedimento semplice, economico, utilizzando materiali di facile reperibilitā in particolare il rame, attraverso un etching chimico utilizzando una soluzione di cloruro di ferro. Questo ha permesso non solo di ottenere le maschere in tempi ragionevolmente brevi, ma anche ti ottenere un metodo riproducibile e affidabile. Inoltre č possibile in questo modo uno studio anche approfondito delle figure geometriche delle maschere, ideali per ottenere sistemi con alte rese.
Subject Wet etching


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