PUMA
Istituto dei materiali per l'elettronica ed il magnetismo     
Bissoli F., Ferrari C., Gilioli E., Mazzer M., Pattini F., Rampino S. Metodo e apparecchiatura di realizzazione di film sottili su un substrato tramite processo di deposizione a elettroni pulsati. Patent n. MI2008A002090. Registered in Milano on 2008.
 
 
Abstract
(English)
A method is proposed to determine with a great accuracy the amount of material deposited after a pulsed electron beam in vacuum
Subject Deposizione di film sottili mediante elettroni pulsati



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