PUMA
Istituto dei materiali per l'elettronica ed il magnetismo     
Watts B. E., Leccabue F., Melioli E., Battaglioli M., Meletti G. Deposizione di Strati Sottili di Ossidi da Fase Vapore. Rapporto interno n. 91. Technical report, 1997.
 
 
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Abstract
(Italiano)
Strati sottili di ossidi, semplici e multinari, hanno numerose applicazioni e, di conseguenza, le tecniche utilizzate per la loro deposizione hanno subito un notevole sviluppo. Molte di queste tecniche permettono la preparazione di differenti ossidi in forma di film sottile a temperature molto inferiori a quelle normalmente usate per formare ceramici massivi. Si possono ricoprire diversi tipi di materiale (metalli, vetro, ceramiche, leghe, monocristalli, ecc.), anche di forma complessa senza danneggiarli durante il processo. In questo rapporto interno diverse metodologie di deposizione sono confrontate e si illustrano alcune varianti della tecnica di deposizione chimica da fase vapore (CVD).
Subject CVD


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